מסכת רנטגן – X-ray mask by electroplating
microparts by means of X-ray, e-beam, UV and 2-photon lithography and by electroplating
מסכת רנטגן – זוהי מסכה עם הצורה המשלימה של הציוד מוכנה על ידי שימוש בסרט דק של זהב על בריליום. זה מבטיח שמסכת הרנטגן מאפשרת העברה של קרני הרנטגן המתאימות לחומר הפוטו-רזיסט בלבד. עוצבה עבור התערבות והדמיית תאורת קצה מ-1 קילו אלקטרון וולט עד 100 קילו אלקטרון וולט, הרשתות הללו הניבו תוצאות מצוינות עבור לקוחות בתחום. רשתות אלו הן מערכים של פתחים המאופיינים לפי הזמן, מחזור העבודה (רוחב מתכת/זמן), גובה החומר ואזור הפריסה. ניתן לספק רשתות בגדלים של פריסה הנעים בין 60 על 20 מ”מ ל-160 על 90 מ”מ. בנוסף, יש לנו אפשרות של תפירה/ריצוף של רשתות לשטחים גדולים עוד יותר
מדובר ביצרן חדשני של מוצרים סטנדרטיים ומותאמים אישית עבור בדיקות לא הרסניות בקרני רנטגן ובקרת איכות קרני רנטגן. הלקוחות העיקריים הם חוקרים ומחנכים, אך גם לקוחות תעשייתיים. באמצעות ליתוגרפיה של קרני רנטגן הושגה במהירות התקדמות לסורגים (רשתות) אופטיים של קרני רנטגן , אינטרפרומטר של קרני רנטגן. הצוות המסור של היצרן נעזר באמצעות הטכניקות הליטוגרפיות המודרניות ביותר, מיקרו-אלקטרופול והרבה יצירתיות
אתם מוזמנים ליצור קשר לקבלת מידע נוסף, ייעוץ והצעת מחיר חינם
התקשרו עוד היום
נשמח לשוחח עימכם
microparts by means of X-ray, e-beam, UV and 2-photon lithography and by electroplating
X-ray interferometer to be added to your existing X-ray tube and detector.
high-quality X-ray optical components such as apertures, gratings, X-ray lenses, beamstops, resolution targets and X-ray interferometers
Tags: and nickel alloys, e-beam, electroplating, gold, microparts by means of X-ray, molding, nickel, UV and 2-photon lithography and by electroplating, x-ray mask, xray mask, בדיקות לא הרסניות בקרני רנטגן, מסיכת רנטגן, מסכת רנטגן, מסכת רנטגן – X-ray mask, מסכת רנטגן X-ray mask
For example:
Absortion grating
period 3.0μm, absorber height (gold) >20μm
substrate 500μm Vespel (Polyimid)
period 3.0μm, absorber height >20μm
Phase grating with pi-shift at 11.5keV
period 4.8μm
phase shift material radiation resistant epoxy
height of material 26.5μm
substrate 500μm Vespel (Polyimid)
Here are 10 similar products to X-ray masks that are in top demand today:
1. DUV (Deep Ultraviolet) Photomasks
This is the workhorse of modern semiconductor manufacturing. DUV photomasks are transparent quartz plates with a pattern defined by a thin chrome absorber layer. They are used in photolithography systems that use 193 nm (ArF) or 248 nm (KrF) light. The demand for these masks is extremely high due to their use in the production of most integrated circuits.
2. EUV (Extreme Ultraviolet) Photomasks
EUV masks are the cutting-edge of lithography. Unlike DUV masks, they are reflective. The mask pattern is defined on a multilayer stack of molybdenum and silicon. They are used with a 13.5 nm EUV light source to pattern features at the 5 nm node and below. These masks are in top demand for the most advanced semiconductor manufacturing.
3. Phase-Shift Masks (PSMs)
PSMs are a type of DUV photomask that manipulates the phase of light passing through different regions of the mask. This creates destructive interference at the edges of the pattern, which sharpens the image and allows for printing smaller features than a conventional mask. They are in high demand for making dense, high-resolution patterns.
4. Binary Photomasks
This is the simplest and most common type of photomask. It consists of a transparent substrate (quartz) and an opaque pattern (chrome). While simple, they are in top demand for the vast majority of semiconductor, MEMS, and LED fabrication processes that do not require the extreme resolution of phase-shifting or EUV masks.
5. Reticles for Steppers and Scanners
A reticle is essentially a type of photomask that contains only a portion of the complete chip design. A stepper or scanner then moves the reticle and “steps” the pattern across the wafer. Reticles are in top demand for their ability to be reused on multiple wafers, making them highly cost-effective for mass production.
6. Grayscale Masks
These masks are used to create 3D microstructures. The pattern is not just opaque or transparent, but has regions with varying levels of opacity. This allows for the creation of sloped or curved surfaces in the photoresist layer. They are in top demand for MEMS, micro-optics, and microfluidics.
7. Pellicles
A pellicle is a thin, transparent membrane stretched over a frame that is attached to a photomask. Its purpose is to protect the mask from dust and contamination. It prevents dust particles from being in the focal plane of the lithography system, thereby avoiding printing defects on the wafer. They are in top demand for all high-volume lithography processes.
8. Nanoimprint Lithography (NIL) Templates
NIL is a mask-based but non-optical patterning technique. A hard template with a nanoscale pattern is pressed into a soft resist on a wafer. The template is a direct competitor to a photomask, and NIL is a low-cost, high-throughput alternative for patterning in areas like LED manufacturing, hard disk drives, and microfluidics.
9. Maskless Lithography Systems
These are direct-write systems that do not use a physical mask. Instead, they use an array of light modulators (e.g., Digital Micromirror Devices) or electron beams to directly pattern the wafer. They are in top demand for prototyping, low-volume production, and creating complex, custom patterns without the cost and time of manufacturing a photomask.
10. Electron-Beam (E-Beam) Resists and Substrates
While not a mask, the materials used for E-beam lithography are a direct part of the patterning process. E-beam lithography is a maskless technique for creating the highest resolution patterns. The specialized resists and substrates for this process are in top demand for advanced research, mask fabrication itself, and for creating the masters for nanoimprint templates.
רשומות נוספות
גלאי הדמיה רדיוגרפיה רנטגן דיגיטלי – X-ray digital radiography imaging detectors
גלאי הדמיה רדיוגרפיה רנטגן דיגיטלי – X-ray digital radiography imaging detectors אנחנו משווקים בישראל גלאי הדמיה לצילומי רנטגן. מדובר בגלאים המשמשים לבדיקות לא הרסניות non-destructive testing אז אם אתם מחפשים אחר גלאים מסוג זה או גלאים אופטיים אחרים, אתם מוזמנים ליצור עימנו קשר. אנחנו עובדים עם הרבה יצרנים מרחבי העולם ומשרתים לקוחות ישראליים במשך שנים …
Radiation protection : x-ray radiation shielding
Radiation protection : x-ray radiation shielding Radiation protection : x-ray radiation shielding. We offer range of solutions for x-ray radiation shielding mostly in the medical field but not only. We work with medical companies, hospitals, dentists, laboratories, army and more. Below is a partial list of products we offer: Lead sheets Lead glass Mobile lead …
x-ray imaging system with spatial resolution: < 1 micrometer | מערכת הדמיה
x-ray imaging system with spatial resolution: < 1 micrometer | מערכת הדמיה MICRO SYSTEMS Spatial resolution: < 1 micrometer Field of view: < 4 mm מאפיינים נוספים של מערכת זו up to 16-bit monochrome depth Low electronic read noise – several e-/pix/s only Coatings – anti-reflection, reflection Binning 1×1 to 4×4 Peltier cooling Software …
מערכת הדמית רנטגן עם רזולוציה גבוהה | High resolution x-ray imaging system
מערכת הדמית רנטגן עם רזולוציה גבוהה | High resolution x-ray imaging system יישומים מערכת הדמיה המתאימה ליישומים רבים אשר בהם יש צורך להבחין בפרטים מאוד קטנים כגון: אובייקטים ביולוגיים ורפואיים, אלקטרוניקה, חומרים קלי משקל, בחינת קרני רנטגן ויו וי מאפיינים נוספים של מערכת זו up to 16-bit monochrome depth Low electronic read noise – several …
גלאי קרינת רנטגן | X-RAY DETECTOR
גלאי קרינת רנטגן | X-RAY DETECTOR גלאי רנטגן הם מכשירים המשמשים למדידת שטף, התפלגות מרחבית, ספקטרום ו / או תכונות אחרות של קרני רנטגן אנו משווקים גלאים לקרינת רנטגן העושים שימוש בגבישי סינטילציה אנו יכולים לספק גם ציוד נילווה בתחום אתם מוזמנים ליצור איתנו קשר לקבלת ייעוץ, פרטים נוספים והצעת מחיר התקשרו עכשיו נשמח לסייע …
Buy lead glass in Palestine | buy lead glass in Ramallah | Lead glass for X-ray rooms
Buy lead glass in Palestine | buy lead glass in Ramallah | Lead glass for X-ray rooms If you are looking for lead glass or lead sheet rolls you can contact us as we supplied these items to hospitals and others health clinics. lead protection products November 21, 2017UncategorizedComments: 0yaronTags: Lead glass x-ray protection, Lead protection products, lead …
Buy lead roll in Israel | buy lead sheet for X-ray protection in Israel
Buy lead roll in Israel | buy lead sheet for X-ray protection in Israel Contact us now We sell inside Israel but also outside of Israel We will be happy to work with you call us now ======================================= Contact us now for free quote and advice! ========================================== We offer a wide range …
דוזימטר, מד קרינת רנטגן- X-Ray Dosimeter
דוזימטר, מד קרינת רנטגן- X-Ray Dosimeter מודד את כמות הקרינה באזור גלאי קרינת רנטגן | X-RAY DETECTOR גלאי קרינת רנטגן | X-RAY DETECTOR גלאי רנטגן הם מכשירים המשמשים למדידת שטף, התפלגות מרחבית, ספקטרום ו / או תכונות אחרות של קרני רנטגן אנו משווקים גלאים לקרינת רנטגן העושים שימוש בגבישי סינטילציה אנו יכולים לספק גם ציוד נילווה בתחום אתם מוזמנים ליצור איתנו קשר לקבלת ייעוץ, פרטים …
גלאי ספירת פוטונים בודדים – Single Photon Counting detector
גלאי ספירת פוטונים בודדים – Single Photon Counting detector גלאי ספירת פוטונים בודדים – Single Photon Counting detector מדובר בגלאי, דטקטור, אשר מסוגל לזהות פוטונים בודדים. הגלאי יכול לזהות פוטון אחד בכל פעם. גלאי פוטון בודד פולט פולס אות עבור כל פוטון שזוהה. יעילות הספירה נקבעת על פי היעילות הקוונטית וההפסדים האלקטרוניים של המערכת זיהוי …
מערכת הדמיית שבירה כפולה – מדידת שבירה כפולה
מערכת הדמיית שבירה כפולה מערכת הדמיית שבירה כפולה. מודד שבירה דו-פעמית הנגרמת על ידי מתח ומתח בדגימות שטוחות עבור מגוון יישומים, החל מחומרים ומחקר ביולוגי ועד הבטחת מוצר. מערכת זו מיועדת לשימוש במחקר אקדמי, אבחון רפואי, ייצור תעשייתי והבטחת איכות המוצר. מכיוון שהוא מבוסס על מכשיר גביש נוזלי, אין תנועה מכנית פנימית, מה שמוביל לפעולה …
TOF sensor drone application – חיישן זמן טיסה ליישומי רחפן
TOF sensor drone application – חיישן זמן טיסה ליישומי רחפן TOF sensor drone application – חיישן זמן טיסה ליישומי רחפן. אנו משווקים בישראל חיישנים באיכות גבוהה הסדרה היא פלטפורמת חיישן מדידת מרחק תלת מימדית מרובה פיקסלים המבוססת על עיקרון זמן הטיסה האופטי עם עד 32 פיקסלים בתוך שדה ראייה כולל (FoV) של עד 12.4° x …