שינוי מבנה ציפוי הזכוכית על ידי לייזר פיקו שנייה – Patterning glass coatings with picosecond lasers

שינוי מבנה ציפוי הזכוכית על ידי לייזר פיקו שנייה – Patterning glass coatings with picosecond lasers

אנו משווקים בישראל מערכות מיוחדות אשר יכולות לעצב את הציפוי הדק אשר נמצא על זכוכיות

הטיפול בציפוי נעשה על ידי לייזר פיקו סקונד אשר מקצר את התהליך

לפרטים נוספים וקבלת הצעת מחיר – צרו עמנו קשר עכשיו

שינוי מבנה ציפוי הזכוכית על ידי לייזר פיקו שנייה
שינוי מבנה ציפוי הזכוכית על ידי לייזר פיקו שנייה

תרגום גוגל

דפוסי ציפוי זכוכית עם לייזרי picosecond

תחמוצת אינדיום-בדיל (איטו) כבר בשימוש נפוץ בפלורידה בצגים ומוצרי אלקטרוניקה כמו אלקטרודה שקופה אורגניים מבוסס. שיטת photolithographic הקונבנציונלית של עשיית דפוסים כרוכה תהליכים מרובים, כוללים תחריט כימי רטוב. כתיבת הלייזר ישירה (LDW) היא הטכנולוגיה שמתחרה בדפוסים של איטו.

זה Maskless, תהליך יבש מבוצע בתנאי סביבה, החלפת שלבי תהליך photolithographic רבים עם מבצע אבלציה לייזר אחד.

אינטרנט אלחוטי גם דה קצות נד והבידוד חשמלי טוב בהפרדה קצרה בין קווי מנצח נדרשים למכשירי OLED ו- RFID המודרניים. קצוות חדים של קווי ablated הם, במיוחד, חשובים כאשר המרחק בין שורות המנצח מתכווץ עד 10 מיקרומטר. מכשירי אלקטרוניקה אורגניים הם מבני LM אלחוטי דקים עם העובי הכולל של LMS אלחוטי הפעיל בטווח של 100 ננומטר. לכן, רכסים על קצוות יכולים לגרום קצרי מעגלים במכשירי OLED או ירידה בתוחלת החיים ויעילות עבודה של המכשירים. סוגים שונים של לייזרים פעמו נבדקו לאבלציה איטו. באיכות גבוהה ביותר הושגה על ידי פעימות לייזר אולטרה מהירות עם דור מופחת של שאריות. לוקליזציה נד אלחוטית גם של אנרגיית לייזר היא חיונית לכל הסרת באיכות גבוהה של שכבה דקה מהמצע.

Patterning glass coatings with picosecond lasers

Indium–tin oxide (ITO) has been commonly used in flat panel displays and organics-based electronics as a transparent electrode. The conventional photolithographic method of making patterns involves multiple processes, including wet chemical etching. Laser direct write (LDW) is the technology which competes in patterning of ITO.

It is a maskless, dry process performed under ambient conditions, replacing numerous photolithographic process steps with one laser ablation operation.

The well defined edges and good electrical isolation at a short separation between conductor lines are required for the modern OLED and RFID devices. Sharp edges of the ablated lines are, especially, important when the distance between the conductor lines shrinks down to 10 µm. Organic electronics devices are thin film structures with the total thickness of active films in the range of 100 nm. Therefore, ridges on edges can cause short-circuits in OLED devices or reduction in the working longevity and efficiency of the devices. Various types of pulsed lasers were examined for ITO ablation. A highest quality was achieved by ultra-fast laser pulses with reduced generation of residues. A well defined localization of laser energy is crucial for any high quality removal of a thin layer from the substrate.

tags:
שינוי מבנה ציפוי הזכווכית על ידי לייזר פיקו שנייה – Patterning glass coatings with picosecond lasersX שינוי מבנה ציפוי הזכווכית על ידי לייזר פיקו שנייהX – Patterning glass coatings with picosecond lasersX Laser direct writeX photolithographic processX one laser ablation operationX ultra-fast laser pulses with reduced generation of residues